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- Trifluorure d'azote(NF₃) - Trifluorure d'azote (NF3) Gaz
Le trifluorure d'azote joue un rôle essentiel dans la fabrication des semi-conducteurs et dans diverses autres applications industrielles. Le trifluorure d'azote est utilisé dans le processus de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) dans la fabrication des semi-conducteurs. Il joue un rôle déterminant dans le nettoyage et le dépôt de films essentiels pour les composants électroniques de haute performance. Dans les processus de photolithographie, le trifluorure d'azote sert d'agent de fluoration et contribue à la création de motifs précis, cruciale pour la microfabrication et la fabrication de puces.
Poids moléculaire : 71,002
Point d'ébullition : -129,05 à 1,013 bar [℃] / -200,29 à 14,5 psi, [℉]
Densité : 3,015 à 1,013bar, 15℃, [kg/m3] / 0,184 à 1 atm., 70 ℉, [lb/ft3]
Plage d'inflammabilité dans l'air, [% volume] : Non combustible
Volume spécifique : 0,332 à 1,013bar, 15℃, [m3/kg] / 5,43 à 1 atm., 70 ℉, [ft3/lb]
1. Le trifluorure d'azote est utilisé comme agent de gravure sélectif à grande vitesse dans le traitement du silicium. Il a été utilisé pour graver le silicium, le polysilicium, le nitrure de silicium et l'oxyde de silicium, ainsi que les métaux réfractaires et les siliciures.
2. Le trifluorure d'azote est parfois utilisé comme source de fluor dans les lasers chimiques HF /DF. Le trifluorure d'azote est utilisé comme agent de fluoration. Le trifluorure d'azote est également utilisé pour le traitement des fibres.
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