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- Trifluoruro di azoto (NF₃) - Gas trifluoruro di azoto (NF3)
Il trifluoruro di azoto svolge un ruolo fondamentale nella produzione di semiconduttori e in diverse altre applicazioni industriali. Il trifluoruro di azoto viene utilizzato nel processo di deposizione chimica di vapore al plasma (PECVD) nell'ambito della produzione di semiconduttori. È fondamentale per la pulizia e il deposito di pellicole fondamentali per i componenti elettronici ad alte prestazioni. Nei processi di fotolitografia, il trifluoruro di azoto serve come agente fluorurante, favorendo la creazione di modelli precisi, fondamentali per la microfabbricazione e la produzione di chip.
Peso molecolare: 71,002
Punto di ebollizione: -129,05 a 1,013 bar [℃] / -200,29 a 14,5 psi [℉].
Densità: 3,015 a 1,013 bar, 15℃, [kg/m3] / 0,184 a 1 atm., 70 ℉, [lb/ft3]
Intervallo di infiammabilità in aria, [% volume]: Non combustibile
Volume specifico: 0,332 a 1,013 bar, 15℃, [m3/kg] / 5,43 a 1 atm., 70 ℉, [ft3/lb].
1. Il trifluoruro di azoto è utilizzato come mordenzante selettivo ad alta velocità nella lavorazione del silicio. È stato utilizzato per mordenzare silicio, polisilicio, nitruro di silicio e ossido di silicio, nonché metalli refrattari e siliciuri.
2. Il trifluoruro di azoto viene talvolta utilizzato come sorgente di fluoro nei laser chimici HF /DF. Il trifluoruro di azoto è utilizzato come agente fluorante. Il trifluoruro di azoto viene utilizzato anche per il trattamento delle fibre.
AGC Chemicals Europe, Ltd.
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AIR LIQUIDE Deutschland GmbH
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Frunze
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KRAISS & FRIZ e.K. Autogenwerk
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BEKO TECHNOLOGIES GmbH
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