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- 三フッ化窒素(NF₃) - 三フッ化窒素(NF3)ガス
説明
三フッ化窒素は、半導体製造やその他様々な産業用途で極めて重要な役割を果たしている。三フッ化窒素は、半導体製造におけるプラズマエンハンスト化学気相成長(PECVD)プロセスで利用されている。三フッ化窒素は、高性能電子部品に不可欠な膜のクリーニングと成膜に役立っている。フォトリソグラフィープロセスでは、三フッ化窒素はフッ素化剤として機能し、微細加工やチップ製造に不可欠な正確なパターン作成を助けます。
仕様
分子量:71.002
沸点:1.013 bar [℃]で-129.05 / 14.5 psi [℉]で-200.29
密度1.013bar、15℃で3.015 [kg/m3] / 1気圧、70℉で0.184 [lb/ft3]
空気中における燃焼性の範囲、[体積%]:不燃性
比容積: 0.332 at 1.013bar, 15℃, [m3/kg] / 5.43 at 1 atm., 70 ℉, [ft3/lb]
使用分野/使用範囲
さらに読む... 1.三フッ化窒素は、シリコン加工における高速選択エッチング液として使用される。シリコン、ポリシリコン、窒化シリコン、酸化シリコン、耐火金属、シリサイドのエッチングに使用されている。
2.三フッ化窒素は、HF/DF化学レーザーのフッ素源として使用されることがあります。三フッ化窒素はフッ素化剤として使用される。三フッ化窒素は繊維処理にも使用される。
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