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- 삼불화질소(NF3) 가스
삼불화 질소는 반도체 제조와 다른 산업 응용에서 핵심적인 역할을 한다. 삼불화질소는 반도체 제조에서 플라즈마 증강 화학기상증착(PECVD) 공정에 사용된다. 그것은 고성능 전자 부품에 필수적인 박막을 청소하고 증착시키는 데 도움이 된다. 삼불화질소는 광각 과정에서 불소화제로서 미세제조와 칩 제조에 필수적인 정확한 패턴 생성을 돕는다.
분자량: 71.002
끓는점: 1.013바[℃] 에서 -129.05/14.5파운드/제곱 인치 에서 -200.29 [F]
밀도: 1.013바, 섭씨 15도에서 3.015, [kg/입방 미터]/1기압에서 0.184,70°F, [파운드/입방 피트]
공기에서의 가연성 범위, [% 볼륨]: 불연성
용량: 1.013바, 15℃에서 0.332, [m3/kg]/1기압에서 5.43, 70FF, [ft3/lb]
1.삼불화질소는 실리콘 가공 중 고속 선택성 식각제로 사용된다. 그것은 에칭 실리콘, 폴리실리콘, 질화 실리콘, 산화 실리콘, 그리고 용융이 어려운 금속과 규화물에 사용되었다.
2) 삼불화질소는 때때로 HF/DF 화학 레이저에서 불소 공급원으로 사용된다. 삼불화질소는 불소화제로 사용된다. 삼불화질소는 섬유 처리에도 사용된다.
1.삼불화질소는 실리콘 가공 중 고속 선택성 식각제로 사용된다. 그것은 에칭 실리콘, 폴리실리콘, 질화 실리콘, 산화 실리콘, 그리고 용융이 어려운 금속과 규화물에 사용되었다.
2) 삼불화질소는 때때로 HF/DF 화학 레이저에서 불소 공급원으로 사용된다. 삼불화질소는 불소화제로 사용된다. 삼불화질소는 섬유 처리에도 사용된다.
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- 가압 가스
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