تولیدکنندگان، عرضه‌کنندگان، توزیع‌کنندگان

تری فلوئورید نیتروژن نقش اساسی در تولید نیمه هادی ها و سایر کاربردهای صنعتی دیگر دارد. تری فلوئورید نیتروژن در فرآیندهای رسوب بخار شیمیایی با افزایش پلاسما (PECVD) در ساخت نیمه هادی استفاده می شود. این به تمیز کردن و رسوب فیلم هایی که برای قطعات الکترونیکی با کارایی بالا ضروری هستند کمک می کند. در فرآیند فوتولیتوگرافی ، تری فلوئورید نیتروژن به عنوان یک عامل فلورین کننده برای کمک به ایجاد الگوی دقیق ، که برای تولید خرد و ساخت تراشه ضروری است ، استفاده می شود.

وزن مولکولی: 71.002
نقطه جوش: -129.05 در 1.013 بار [℃] /-200.29 در 14.5 پوند در اینچ مربع [درجه فارنهایت]
چگالی: 1.013 بار ، 3.015 در 15 درجه سانتیگراد ، 0.184 در [کیلوگرم/متر مکعب]/1 اتمسفر ، 70 درجه فارنهایت ، [پوند/فوت مکعب]
دامنه اشتعال پذیری در هوا ، [٪ حجم]: غیر قابل اشتعال
حجم خاص: 1.013 بار ، 0.332 در 15 درجه سانتیگراد ، 5.43 در [m3/kg]/1 اتمسفر ، 70 درجه فارنهایت ، [ft3/lb]

1تری فلوئورید نیتروژن به عنوان یک اچنت انتخابی با سرعت بالا در پردازش سیلیکون استفاده می شود. از آن برای اچ کردن سیلیکون ، پلی سیلیکون ، نیترید سیلیکون و اکسید سیلیکون و همچنین فلزات و سیلیسیدهای نسوز استفاده شده است.
2تری فلوئورید نیتروژن گاهی به عنوان منبع فلوئور در لیزرهای شیمیایی HF/DF استفاده می شود. تری فلوئورید نیتروژن به عنوان یک عامل فلوراید کننده استفاده می شود. تری فلوئورید نیتروژن همچنین برای تصفیه فیبر استفاده می شود.